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      助力晶圓生產工藝改進,海洋光學參加2022中國半導體設備年會

      作者:時間:2022-10-25來源:電子產品世界收藏

      中國上海,2022年10月25日 —— 世界領先的光學解決方案提供商(Ocean Insight)將參加于10月27日~29日在無錫太湖國際博覽中心召開的第十屆(2022)中國半導體設備年會暨半導體設備與核心部件展示會(CSEAC)。展位號B3-117,攜最新改善半導體制造工藝的光譜解決方案參展?!澳坌竞狭?,發展芯設備”是這次大會的主題,產業升級是國家的大方向,中國半導體產業正在加速前進,利用自己在光譜技術領域的多年積累,解決創新過程中遇到的問題,與產業伙伴合力推進創新發展。

      本文引用地址:http://www.tpagfe.com/article/202210/439537.htm

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      光纖光譜儀因其快速、無損、原位測量的特點,在半導體行業廣受青睞。作為世界上第一臺微型光纖光譜儀的發明者,海洋光學多年來在半導體領域也積累了豐富的經驗,其光學解決方案用于芯片制造的刻蝕終點監測、透明/半透膜膜厚檢測、橢偏檢測等。

      海洋光學光譜儀產品不斷推陳出新,為客戶提供品類多樣的、更豐富好用的工具幫助創新。海洋光學中國區銷售總裁孫玲博士稱:“光譜儀是一個核心器件,海洋光學就是光譜界的‘樂高’。我們把自己定義為科學儀器創新的奠基者,我們給客戶一個包羅萬象的工具箱,為客戶提供做出創新儀器的全套工具模塊,客戶用這個工具箱可以在半導體等領域進行自己的開發,實現自己的創新理念?!?/span>

      蝕刻終點監測:等離子體檢測系統

      在半導體行業 , 晶圓是用光刻技術制造和操作的。其中蝕刻是主要環節,當在晶圓表面蝕刻時,可使用等離子體監測跟蹤蝕刻穿過晶圓層的程度,確定等離子體何時完全蝕刻特定層并到達下一層。通過監測在蝕刻期間由等離子體產生的發射光譜,可準確追蹤蝕刻過程。這種終點檢測對于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導體材料生產至關重要。

      等離子體監測可以通過靈活的模塊化設置完成,基于Ocean HDX光譜儀的模塊化光譜設置用于監測引入不同氣體和納米顆粒后氬等離子體發射光譜的變化。測量在封閉的反應室中進行,使用光纖和余弦校正器耦合到光譜儀,通過反應腔體中的小窗口進行觀察。測量結果表明模塊化光譜組件可實時獲取等離子體發射光譜。通過發射光譜確定的等離子體特性可用于監測和控制基于等離子體的反應過程。

      Ocean HDX采用高清晰度光學系統,具有高通量和高熱穩定性的特點,支持多種通訊模式,如USB、千兆以太網、Wi-Fi、AP Wi-Fi和RS-232。內置板載緩存數據處理模塊,提高數據分析速度,保證數據完整。

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      模塊化光譜儀配置可用作QC工具或集成到生產線中

      膜厚檢測:晶圓膜厚測量系統

      半導體集成電路的生產以數十次至數百次的鍍膜、光刻、蝕刻、去膜、平坦等為主要工序,膜層的厚度、均勻性等直接影響芯片的質量和產量,在加工中必須不斷地檢測以便控制膜層的厚度。光學薄膜測厚儀是半導體生產流程中必不可少的設備之一,用于對芯片晶圓及相關半導體材料的鍍膜厚度等進行檢測。

      海洋光學膜厚測量系統,配置有采樣平臺、反射探頭等,基于光波的干涉現象,光束照射在薄膜表面,由于入射介質、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系數值,使得光束在透明/半透明薄膜的上下表面發生反射,反射光波相互干涉,從而形成干涉光,這些干涉光在不同相位處的強度將隨著薄膜的厚度發生變化。通過對干涉光的檢測,結合適當的光學模型即可計算得到薄膜的厚度。

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      晶圓膜厚測量系統配置

      QE Pro是一種高靈敏度性能出色的光譜儀,適合低光度應用。 QE Pro薄型背照式CCD探測器具有較高的量子效率,其穩健的設計使其具有很高的信噪比性能和穩定性??赏ㄟ^選擇內部快門,優化對暗噪聲的測量。

      解決問題是海洋光學的使命。海洋光學創始人Mike Morris說,“我們是問題解決者;沒有問題需要解決,就沒有海洋光學?!?

      孫玲博士對此深有感觸:“在一些新的應用領域,總有不盡人意的地方,這時候就需要做出新產品,要求我們的工具不斷提升精度、提升強度,改進溫度一致性、臺間差、一致性等等。這些都是海洋光學最擅長的,因為我們30年專注于光譜領域進行耕耘,有了牢靠的基礎和積累,我們打造出來的工具就是用來解決實際問題的?!?/span>




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